On the flexible display line, the photoresist bake isn’t a background step. It’s a yield gate. A 1°C drift in soft bake or hard bake will shift critical dimension and bring scumming along for the ride. The drying lamp can’t be another variable. It has to be the thermal constant.
What actually matters
We built the flexible display drying lamp around repeatable heat delivery. Halogen sources throw short-wave energy at the surface, so you get rapid, surface-led drying. If you’re running thicker films or thermally sensitive stacks, medium-wave and NIR configurations are available. Expect ±0.1°C wafer-level uniformity across the active zone, and setpoint control that stays within ±0.5°C even when line voltage swings. The system runs in Class 1–100 cleanrooms without stirring particles: sealed quartz envelopes, low-outgassing fixtures, and a laminar airflow path that keeps particle counts flat. Output holds within 2% over 5,000+ hours. The lamp module drops straight into standard track interfaces, with 24 V control and solid connector options.
Why this works for flexible display
Flexible display substrates are thin, curved, and thermally constrained. You need a bake that dries the resist without distorting the substrate or blowing the thermal budget. Our lamp profile cuts soak time while still clearing solvents, so cycle time drops without sacrificing uniformity. Fewer rework lots. Less scrap. Lithography performance stays predictable. And you get lower energy use, because the lamp hits setpoint fast and holds it without hunting.
What you need to plan for
The lamp works with most lithography tracks, but integration comes down to the tool’s optical aperture, exhaust, and where it reads temperature. Plan a short commissioning run to tune the profile to your resist stack and substrate stack. One trade-off: high power density needs clean power. Voltage sag or harmonics can introduce small setpoint jitter, so a stable feed belongs on the installation checklist.
สายการผลิตจอแสดงผลแบบยืดหยุ่น การอบโฟโตรซิสต์ไม่ใช่ขั้นตอนรองแต่เป็นเกตสำหรับอัตราผลผลิต
การเปลี่ยนแปลง 1°C ในการอบแบบอ่อนหรืออบแบบแข็งจะทำให้มิติสำคัญเปลี่ยนไปและก่อให้เกิดการเกาะของคราบ (scumming) ตามมา โคมไฟอบแห้งต้องไม่เป็นตัวแปรเพิ่มเติม แต่ต้องเป็นค่าคงที่ทางความร้อน
สิ่งที่สำคัญจริงๆ
เราออกแบบโคมไฟอบแห้งสำหรับจอแสดงผลแบบยืดหยุ่นโดยเน้นการส่งความร้อนที่ทำซ้ำได้ แหล่งกำเนิดแบบฮาโลเจนส่งพลังงานคลื่นสั้นไปยังผิว ทำให้เกิดการอบแห้งอย่างรวดเร็วจากผิวหน้า หากใช้งานกับฟิล์มหนาหรือชั้นซ้อนที่ไวต่อความร้อน มีตัวเลือกการตั้งค่าคลื่นกลางและ NIR ให้เลือก
คาดหวังความสม่ำเสมอระดับเวเฟอร์ ±0.1°C ในโซนทำงาน และการควบคุมจุดตั้งค่าที่คงที่ในช่วง ±0.5°C แม้แรงดันไฟฟ้าสายจะผันผวน ระบบทำงานในห้องคลีนรูมระดับ Class 1–100 โดยไม่ก่อให้เกิดการกวนฝุ่น: ซองควอตซ์ปิดผนึก, อุปกรณ์ที่ปล่อยก๊าซต่ำ และเส้นทางลมแบบลามินาร์ที่รักษาระดับฝุ่นให้คงที่
ผลลัพธ์คงที่ภายใน 2% ตลอดระยะเวลามากกว่า 5,000 ชั่วโมง โมดูลโคมไฟสามารถติดตั้งเข้ากับอินเทอร์เฟซแทร็คมาตรฐานได้โดยตรง พร้อมการควบคุมที่ 24 V และตัวเชื่อมต่อแข็งแรง
เหตุผลที่โคมไฟนี้เหมาะกับจอแสดงผลแบบยืดหยุ่น
วัสดุรองรับจอแสดงผลแบบยืดหยุ่นมีความบาง โค้ง และจำกัดทางความร้อน จำเป็นต้องมีการอบที่ทำให้โฟโตรซิสต์แห้งโดยไม่ทำให้วัสดุรองรับบิดเบี้ยวหรือใช้พลังงานความร้อนเกินงบประมาณ
โปรไฟล์โคมไฟของเราลดเวลาการแช่ในขณะที่ยังขจัดตัวทำละลายได้ดี จึงลดเวลาในรอบการผลิตโดยไม่กระทบความสม่ำเสมอ ลดจำนวนล็อตที่ต้องแก้ไข และลดของเสีย ประสิทธิภาพลิโธกราฟีจึงคงที่และคาดการณ์ได้
นอกจากนี้ยังใช้พลังงานต่ำกว่า เพราะโคมไฟทำจุดตั้งค่าได้เร็วและรักษาระดับโดยไม่แกว่ง
สิ่งที่ต้องวางแผนล่วงหน้า
โคมไฟสามารถใช้งานร่วมกับแทร็กลิโธกราฟีส่วนใหญ่ได้ แต่การบูรณาการขึ้นกับรูรับแสงของเครื่องมือ ระบบระบายอากาศ และตำแหน่งที่วัดอุณหภูมิ
ควรวางแผนรันทดสอบสั้นๆ เพื่อปรับโปรไฟล์ให้เหมาะกับชั้นโฟโตรซิสต์และวัสดุรองรับของคุณ
ข้อแลกเปลี่ยนอย่างหนึ่งคือความหนาแน่นพลังงานสูงต้องการพลังงานที่สะอาด แรงดันไฟตกหรือฮาร์โมนิกส์อาจทำให้จุดตั้งค่าแกว่งเล็กน้อย ดังนั้นจึงควรมีระบบจ่ายไฟที่เสถียรในรายการตรวจสอบการติดตั้ง