http://industrial-heating-ir.com/cs/tags/burn/ Recent content in Burn on Industrial IR Heating Solutions Hugo cs Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800 http://industrial-heating-ir.com/cs/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/ Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800 http://industrial-heating-ir.com/cs/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/ <p><img src="http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Zkouška spálení čipu – topná lampa"></p> <p>V provozu výroby se teplotní výkyvy během procesů zahřívání čipů nebo sušení fotorezistů projevují rychle – a to v podobě posunu šířky čar na povrchu čipů a poklesu kvality vý<a href="https://o-yate.com">sledn</a>ého produktu. Pokud dovolíme, aby profily teplotního zahřívání se měnily, začneme po obrábění pozorovat zbytky materiálu a parametry výrobku se zhoršují. Naše zařízení na zahřívání čipů je navrženo tak, aby tyto výkyvy eliminovalo.</p> <p>Jádrem tohoto zařízení je halogenní lampa s krátkovlnným infračerveným zářením umístěná v kvartovém <a href="https://henruite.com">pouzd</a>ře. Tato lampa umožňuje rychlé a lokální zahřívání s reakcí v řádu subsekund. V celé oblasti zahřívání zůstává rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C, takže fotorezistent dostává stejnou teplotní zátěž v každém cyklu. V <a href="https://goldisgood.com">prostor</a>ách s úrovní čistoty 1–100 dochází k žádné tvorbě částic – čímž zůstávají maska, čočka a povrch čipu čisté.</p>