Vafle on Industrial IR Heating Solutions

Senzor teploty pro nástroj na destičky

Fri, 24 Jul 2026 11:42:54 +0800

Přestaňte zahřívat stěny vašeho zařízení

Většina infračervených lamp je poněkud chaotická – vyzařují teplo do všech směrů, tedy na 360 stupňů. V případě zařízení určeného k zpracování polovodičových desek to představuje problém. Místo toho, aby veškerá energie dopadla na samotnou destičku, velká část z ní jde na vnitřní stěny zařízení.

Je to plýtvání energií. Ještě horší je, že to způsobuje, že vnější část zařízení se dostatečně zahřeje na to, aby mohla někomu ublížit.

Proto používáme směrové ohřevy.

Bezpečná vzdálenost pro zahřívání polovodičových destiček

Thu, 23 Jul 2026 12:05:50 +0800

Jak zabránit výbuchu systémů na zahřívání polovodičových desek

Při zahřívání silikonových desek opravdu neexistuje žádný prostor na chyby. Stačí jeden malý oblouk elektřiny nebo trocha únikového proudu a hned máte zničenou celou sérii desek a také poškozené řídicí desky. Je to noční můra.

Proto považujeme každou žárovku za potenciální zdroj katastrofy. Nepodstupujeme žádná rizika. Každá jednotka prochází testy na odolnost vůči vysokému napětí a odpor izolace ještě předtím, než opustí naši továrnu.

Děsivá stránka fyziky

Aby byla tepelná hustota správná, musíme kvartovou obálku dotlačit na její limity. Trávíme spoustu času tím, abychom kontrolovali vzdálenost mezi wolframovým vláknem a stěnou trubice.

Přesný IR senzor pro čipy

Thu, 23 Jul 2026 11:52:12 +0800

Přestaňte plýtvat teplem: Proč jsou zlaté reflektory opravdu důležité

Při zahřívání křemíkových desek je každý watt drahocenným zdrojem energie. Většina lidí používá běžné hliníkové reflektory, ale problém je v tom, že hliník spotřebuje příliš mnoho energie – pohlcuje teplo místo toho, aby ho poslal tam, kam je potřeba.

Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS

Sun, 19 Jul 2026 16:25:29 +0800

Proč byste pravděpodobně měli opustit použití horkého vzduchu ve prospěch sušení waferů pomocí infrazáření

Pokud pracujete v oblasti výroby MEMS součástek, znáte ten problém spojený s sušením waferů po procesech mokrého leptání nebo čištění. Je to opravdu velká překážka. Většina provozoven, které navštěvuji, stále používá metodu s horkým vzduchem. Je to „stará spolehlivá“ metoda, ale upřímně řečeno – je pomalá.

Vzduch prostě špatně přenáší teplo. Strávíte tedy spoustu času čekáním, než se vzduch dostane přes povrchové napětí kapaliny, než začne rozpouštědlo vypařovat. Je to frustrující.

Energeticky úsporný ohřívač destiček

Sat, 18 Jul 2026 04:12:38 +0800

Udržování bezpečnosti v oblastech s výbušnými čisticími prostředky
Když zahříváte desky v zařízeních na chemické čištění, potřebujete víc než jen zdroj tepla – potřebujete také jistotu. Pokud pracujete s hořlavými nebo výbušnými rozpouštědly, běžná infračervená lampa není jen nástrojem – je to také zdroj rizika. Proto naše vyhřívací zařízení stavíme s specializovanou ochranou. Ta zabrání nebezpečí vznícení a zároveň zajistí stabilitu, i když se chemikálie stanou nebezpečnými.

Jak zacházíme s konstrukcí zařízení
Nenecháváme kvartovou trubici prostě tak venku – to je výzva k problémům. Aby se odpařované látky nedostaly k topnému prvku a nevyvolaly katastrofu, všechno uzavřeme do hermeticky uzavřené, výbušností odolné konstrukce. Používáme kvartové sklo vysoké čistoty – protože se při tlaku nekroutí, což znamená, že infračervené záření dopadá právě tam, kam má.

Zkouška spálení čipu – topná lampa

Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800

V provozu výroby se teplotní výkyvy během procesů zahřívání čipů nebo sušení fotorezistů projevují rychle – a to v podobě posunu šířky čar na povrchu čipů a poklesu kvality výsledného produktu. Pokud dovolíme, aby profily teplotního zahřívání se měnily, začneme po obrábění pozorovat zbytky materiálu a parametry výrobku se zhoršují. Naše zařízení na zahřívání čipů je navrženo tak, aby tyto výkyvy eliminovalo.

Jádrem tohoto zařízení je halogenní lampa s krátkovlnným infračerveným zářením umístěná v kvartovém pouzdře. Tato lampa umožňuje rychlé a lokální zahřívání s reakcí v řádu subsekund. V celé oblasti zahřívání zůstává rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C, takže fotorezistent dostává stejnou teplotní zátěž v každém cyklu. V prostorách s úrovní čistoty 1–100 dochází k žádné tvorbě částic – čímž zůstávají maska, čočka a povrch čipu čisté.