Heizer für Wafer Level CSP (Chip Scale Package)

Thu, 18 Jun 2026 04:34:37 +0800

In der Fertigungshalle ist eine thermische Schwankung keine Toleranz – sie stellt vielmehr ein absolutes Limit dar. Selbst eine geringe Temperaturänderung kann das Verhalten des Fotoleitmittels beeinträchtigen. Und wenn die CSP-Schichten ungleichmäßig aushärten, entstehen Verzerrungen und damit auch Qualitätsprobleme. CSP auf Waferebene funktioniert nur dann, wenn die Temperaturen kontrollierbar sind – und zwar genau innerhalb bestimmter Grenzwerte bei jedem Schritt des Prozesses.

Was wirklich wichtig ist: Wir haben den Infrarotheizer für CSP auf Waferebene so konstruiert, dass er kurzwelliges NIR-Licht ausstrahlt – Lichtwellenlängen, die vom Fotoleitmittel sowie den Polymerdielektrika effektiv absorbiert werden. Die Energie gelangt schnell direkt in die Schicht, wobei nur minimal Wärme in den Träger übergeht. In der Aktivzone bleibt die Homogenität bei ±0,1 °C – die Wiederholgenauigkeit liegt bei 0,2 °C über einen Zeitraum von 24 Stunden.

CSP on Industrial IR Heating Solutions

Heizer für Wafer Level CSP (Chip Scale Package)