<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Test on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/de/tags/test/</link>
		<description>Recent content in Test on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/de/tags/test/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Wafer Burn in Test Heizlampe</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/de/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/de/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Wafer Burn in Test Heizlampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle zeigen sich die Temperaturschwankungen während des „Burn-in“-Verfahrens oder beim Erhitzen des Photoresists schnell – in Form von Schwankungen in der Breite der Linien sowie einer &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;abnehmenden&lt;/a&gt; Produktivität. Wenn die Profile für das sanfte und hartes Erhitzen nicht strikt eingehalten werden, entstehen nach dem Ätzen Rückstände, und die Fehlerquoten steigen. Wir haben unser Heizsystem für das „Burn-in“-Verfahren so konzipiert, dass diese Unwägbarkeiten ausgeschlossen werden.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Das Herzstück dieses Systems ist eine Kurzwellinfrarot-Halogenlampe in einer Quarzkapsel. Sie ermöglicht ein schnelles, gezieltes Heizen mit einer Reaktionszeit von weniger als einer Sekunde. In der gesamten Erhitzungszone bleibt die Homogenität auf demWafer bei ±0,1°C – dadurch erhält der Photoresist in jeder Cycle dieselbe Temperatur. In Reinräumen der Klasse 1–100 wird die Montage ohne jegliche Partikelbildung durchgeführt – dadurch bleiben Maske, Linse und Waferoberfläche sauber.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
