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		<title>Calor on Industrial IR Heating Solutions</title>
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				<title>Calor de alta precisión para IR de obleas</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Calor de alta precisión para IR de obleas&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, uno aprende rápidamente que un cambio de 0,5 °C en la temperatura de horneado del fotorresistencia puede hacer que una dimensión crítica cambie en nanómetros. El calentamiento por IR de los wafers debe ofrecer perfiles térmicos reproducibles, de turno en turno, sin generar partículas durante el proceso ni afectar negativamente su eficiencia.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que realmente importa&lt;/strong&gt;&#xA;Utilizamos mó&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;dulos&lt;/a&gt; de calentamiento por IR con emisores de halógeno de onda corta y control de &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;bucle&lt;/a&gt; cerrado, lo que permite mantener la uniformidad de la temperatura en todo el área de horneado dentro de un rango de ±0,1 °C. La respuesta es instantánea, por lo que los parámetros térmicos se mantienen estables y las condiciones de procesamiento no cambian. Los módulos están diseñados para ser utilizados en salas limpias de clase 1–100, utilizando materiales con baja emisión de gases y un diseño que minimiza la generación de partículas. La potencia de salida se mantiene estable durante más de 5,000 horas, con una variación inferior al 5%.&lt;/p&gt;</description>
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