<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>فَب on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/fa/tags/%D9%81%D9%8E%D8%A8/</link>
		<description>Recent content in فَب on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 03:45:01 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/fa/tags/%D9%81%D9%8E%D8%A8/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>فرآیند پخت پلیایمید برای ساخت ویفر</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/fa/posts/polyimide-curing-for-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:45:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/fa/posts/polyimide-curing-for-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;فرآیند پخت پلیایمید برای ساخت ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در کف کارخانه، پخت پلی‌ایمید فقط یک مرحله ساده نیست—بلکه عاملی تعیین‌کننده در بازدهی است. اگر دما را تنها ۱.۵°C جابجا کنید، استرس ایجاد می‌شود، ویفرها تاب برمی‌دارند و ساعت‌ها کار لیتوگرافی هدر می‌رود. ما پلتفرم حرارتی را ساختیم تا پروفایل پخت را در محدوده مجاز حفظ کند، بار به بار.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;آنچه از نظر فنی اهمیت دارد&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ما یکنواختی دمایی در سطح ویفر را با دامنه ±۰.۱°C در تمام محدوده پخت حفظ می‌کنیم، با استفاده از مادون قرمز کوتاه‌موج همراه با کنترل دقیق طیفی برای تطابق با جذب پلی‌ایمید. ناحیه داغ از کوارتز و سرامیک با خلوص بالا تشکیل شده است—این مواد به دلیل حفظ دما بدون ایجاد گازهای خروجی انتخاب شده‌اند. سازگاری با کلاس ۱–۱۰۰ اتاق تمیز صرفاً یک اقدام جانبی نیست: مواد کم‌ذره، اتصالات مهر و موم شده و مسیر جریان مثبت لامینار در طراحی لحاظ شده‌اند. سیستم هر بار پخت را با بودجه حرارتی مستند شده و ردیابی شده تا حد SPC تکرار می‌کند، بنابراین پخت نرم و سخت فقط زمانی قابل تعویض هستند که داده‌ها آن را تأیید کنند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>لامپ خشککن نمایشگر انعطافپذیر فب</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/fa/posts/flexible-display-drying-lamp-fab/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:32:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/fa/posts/flexible-display-drying-lamp-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;لامپ خشککن نمایشگر انعطافپذیر فب&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در خط نمایشگر انعطاف‌پذیر، پخت فوتورزیست یک مرحله پس‌زمینه نیست. این مرحله یک دروازه کنترل بازده است.&lt;br&gt;&#xA;انحراف ۱ درجه سانتی‌گراد در پخت نرم یا پخت سخت باعث تغییر ابعاد بحرانی و ایجاد اسکمینگ می‌شود. چراغ خشک‌کن نباید متغیر دیگری باشد. باید ثابت حرارتی باشد.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;آنچه-واقعا-اهمیت-دارد&#34;&gt;آنچه واقعاً اهمیت دارد&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;چراغ خشک‌کن نمایشگر انعطاف‌پذیر را حول تحویل حرارت قابل تکرار ساختیم. منابع هالوژن انرژی کوتاه‌موج را به سطح می‌تابانند، بنابراین خشک‌شدن سریع و با محوریت سطح حاصل می‌شود. اگر در حال استفاده از فیلم‌های ضخیم‌تر یا ساختارهای حساس به حرارت هستید، پیکربندی‌های موج متوسط و NIR نیز در دسترس است.&lt;br&gt;&#xA;انتظار یکنواختی ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد در سطح ویفر در ناحیه فعال را داشته باشید و کنترل نقطه تنظیم که حتی در نوسانات ولتاژ خط، در محدوده ±۰.۵ درجه سانتی‌گراد باقی می‌ماند. این سیستم در اتاق‌های تمیز کلاس ۱–۱۰۰ بدون تولید ذرات کار می‌کند: محفظه‌های کوارتز مهر و موم‌شده، فیکسچرهای کم گازدهی و مسیر جریان هوای لمینار که تعداد ذرات را ثابت نگه می‌دارد.&lt;br&gt;&#xA;خروجی در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت، در محدوده ۲٪ ثابت می‌ماند. ماژول چراغ مستقیماً در رابط‌های استاندارد ردیف قرار می‌گیرد، با کنترل ۲۴ V و گزینه‌های کانکتور محکم.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
