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		<title>Brûler on Industrial IR Heating Solutions</title>
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				<title>Lampe de chauffage pour le test de brûlure des wafer</title>
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				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:43 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampe de chauffage pour le test de brûlure des wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le terrain de fabrication, les fluctuations thermiques pendant les phases de chauffage ou de séchage du photo-résiste se manifestent rapidement : cela se traduit par des variations dans la largeur des lignes et une baisse du taux de production. Si l’on laisse les profils de chauffage varier, des résidus apparaissent après l’etching, ce qui entraîne des défaillances. Nous avons conçu notre système de chauffage pour éliminer cette variabilité.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;L’élément central de ce système est une lampe halogène à infrarouges à courte longueur d’onde, intégrée dans une enveloppe en quartz. Cette lampe permet un chauffage rapide et localisé, avec un temps de réponse inférieur à une seconde. Dans toute la zone de chauffage, l’uniformité de température reste comprise entre ±0,1°C, ce qui garantit que le photo-résist reçoit toujours la même quantité d’énergie, cycle après cycle. Dans des chambres propres de classe 1–100, l’assemblage se déroule sans génération de particules, ce qui permet de maintenir les surfaces de la masque, des lentilles et des wafers propres.&lt;/p&gt;</description>
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