Chaleur haute précision pour IR de wafer

Mon, 29 Jun 2026 07:22:50 +0800

Sur le site de fabrication, on apprend rapidement qu’une variation de 0,5 °C dans la température de chauffage du photo-résistant peut entraîner des variations de quelques nanomètres dans les dimensions critiques des composants. Le chauffage par rayonnement infrarouge doit donc fournir des profils thermiques répétables, cycle après cycle, sans introduire de particules dans le processus ni compromettre le temps de fonctionnement de l’équipement.

Ce qui est essentiel Nous utilisons des modules de chauffage par rayonnement infrarouge dotés d’émetteurs halogènes à ondes courtes, avec un système de contrôle en boucle fermée. Cela permet de maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la zone de chauffage. La réponse du système est inférieure à une seconde, ce qui permet de conserver des profils thermiques stables et d’éviter toute variation inutile. Les modules sont conçus pour être utilisés en environnement propre de classe 1–100, en utilisant des matériaux à faible émission de gaz et des circuits conçus pour minimiser la formation de particules. La puissance délivrée reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec une variation inférieure à 5 %.

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Chaleur haute précision pour IR de wafer