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		<title>Cuisson Au Four on Industrial IR Heating Solutions</title>
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				<title>Lampe de cuisson du photo résiste</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/fr/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson du photo résiste&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans le domaine de la lithographie, une variation de 1 °C lors du séchage doux ou fort a des effets néfastes : elle affecte l’épaisseur des lignes dessinées, perturbe le contrôle de la largeur des lignes, et influencie également le taux de productivité. Les lampes de séchage constituent donc des outils essentiels pour &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;maintenir&lt;/a&gt; une température stable dans la salle propre.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ce qui est important sur le plan technique, c’est que ces lampes permettent de maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C au niveau de la Wafer, grâce à l’utilisation de sources infrarouges à courte longueur d’onde associées à un système thermique basé sur du quartz. La répétabilité des paramètres de température reste élevée, quel que soit le niveau de séchage, que ce soit un séchage à basse température ou un séchage à haute température, sans aucune déviation.&lt;/p&gt;</description>
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