Di area produksi, fluktuasi suhu selama proses burn-in atau pengeringan photoresist akan terasa segera—berupa perubahan lebar garis pada permukaan wafer dan penurunan kualitas produk. Jika proses pemanasan tidak dikontrol dengan baik, maka akan muncul sisa-sisa bahan kimia setelah proses etching, dan kegagalan secara parametris pun akan meningkat. Kami merancang sistem pemanas untuk wafer agar fluktuasi suhu tersebut dapat diminimalkan.
Inti dari sistem ini adalah lampu inframerah berfrekuensi tinggi yang berada dalam pelindung berbahan kuarsa. Lampu ini dirancang untuk memberikan pemanasan yang cepat dan lokal, dengan respons waktu kurang dari satu detik. Di zona pemanasan, tingkat keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap stabil, yaitu antara ±0,1°C. Dengan demikian, photoresist akan mendapatkan kondisi termal yang sama setiap siklusnya. Di ruang bersih kelas 1–100, proses perakitan berjalan tanpa adanya partikel-partikel kotor, sehingga permukaan mask, lensa, dan wafer tetap bersih.
Kinerja lampu ini tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan kualitas kurang dari 5%. Dengan demikian, lampu ini cocok digunakan untuk operasi 24/7 tanpa perlu kalibrasi berulang-ulang.
Inilah keunggulan lampu ini: kemampuannya untuk menyesuaikan suhu pemanasan sesuai dengan rentang suhu yang diperlukan oleh photoresist, serta kemampuannya untuk mencapai profil pemanasan yang tepat sebelum proses litografi. Selain itu, lampu ini juga mampu menghindari adanya titik panas saat proses burn-in berlangsung. Hasilnya adalah kontrol ketepatan ukuran wafer yang lebih baik, pengurangan jumlah produk yang harus diperbaiki, serta rencana produksi yang lebih teratur. Penggunaan energi juga berkurang, karena lampu ini hanya memanaskan objek yang dituju, bukan seluruh ruang produksi.
Pemasangan lampu ini cukup sederhana: cukup pastikan antarmuka koneksi alat Anda sesuai, dan pastikan jalur optik tidak terhalang. Lampu ini bekerja dengan intensitas tinggi, sehingga diperlukan perlindungan tambahan untuk melindungi operator dan peralatan di sekitarnya. Lakukan inspeksi berkala pada komponen kuarsa agar semuanya tetap bersih dan performanya tetap konsisten.