Pengeringan on Industrial IR Heating Solutions

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sun, 19 Jul 2026 16:25:24 +0800

Mengapa sebaiknya Anda beralih dari penggunaan udara panas ke metode pemanasan inframerah untuk mengeringkan wafer

Jika Anda bekerja di bidang pembuatan komponen MEMS, pasti Anda tahu betapa menyebalkannya proses pengeringan wafer setelah proses etching atau pembersihan. Proses ini merupakan hambatan besar dalam proses produksi. Sebagian besar pabrik yang saya kunjungi masih menggunakan metode pemanasan udara panas. Meskipun ini merupakan cara yang sudah lama digunakan, tapi sejujurnya, cara ini sangat lambat.

Udara sama sekali tidak efektif untuk mentransfer panas. Anda harus menunggu cukup lama agar udara dapat menembus permukaan cairan sebelum pelarut mulai menguap. Hal ini tentu sangat mengganggu.

Bohlam lampu pengering wafer murah

Mon, 08 Jun 2026 05:17:19 +0800

Di lantai produksi, pergeseran suhu pengeringan wafer cepat terdeteksi—terlihat langsung pada profil photoresist. Ini muncul sebagai T-topping setelah proses develop, dan sebagai kendali lebar garis yang melorot setelah proses etch. Kami mengembangkan lampu pengering dengan biaya rendah untuk menghilangkan pengaruh drift termal dari proses.

Apa yang penting secara teknis
Lampu ini menggunakan inframerah gelombang pendek untuk menghasilkan pemanasan cepat dan terlokalisasi dengan respons kurang dari satu detik. Lampu ini ditujukan untuk tahap soft bake dan hard bake, dengan repeatabilitas setpoint dalam ±0,1°C di seluruh wafer. Hal ini menjaga keseragaman dimensi kritis tanpa melebihi batas anggaran termal photoresist.