<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Skala on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/id/tags/skala/</link>
		<description>Recent content in Skala on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/id/tags/skala/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas tipe Wafer Level CSP (Chip Scale Package)</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/id/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/id/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Pemanas tipe Wafer Level CSP (Chip Scale Package)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lini produksi, fluktuasi suhu bukanlah hal yang dapat diterima; hal tersebut merupakan batasan yang harus dihindari. Jika proses pemanasan berlangsung secara tidak sempurna, bahkan hanya sebesar satu derajat saja, maka profil fotorezistan akan terganggu. Sedangkan jika proses pengerasan lapisan CSP tidak merata, maka akan terjadi pembengkakan dan penurunan kualitas produk. CSP tingkat wafer hanya dapat berfungsi dengan baik ketika kontrol suhu dilakukan secara konsisten, dan suhu harus tetap stabil di bawah satu derajat pada setiap tahapnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
