<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Terbakar on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/id/tags/terbakar/</link>
		<description>Recent content in Terbakar on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/id/tags/terbakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk pengujian kerusakan wafer</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/id/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/id/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk pengujian kerusakan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area produksi, fluktuasi suhu selama proses burn-in atau pengeringan photoresist akan terasa segera—berupa perubahan lebar garis pada permukaan wafer dan penurunan kualitas produk. Jika proses pemanasan tidak dikontrol dengan baik, maka akan muncul sisa-sisa bahan kimia setelah proses etching, dan kegagalan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;secara&lt;/a&gt; parametris pun akan meningkat. Kami merancang sistem pemanas untuk wafer agar fluktuasi suhu tersebut dapat diminimalkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Inti dari sistem ini adalah lampu inframerah berfrekuensi tinggi yang berada dalam pelindung berbahan kuarsa. Lampu ini dirancang untuk memberikan pemanasan yang cepat dan lokal, dengan respons waktu kurang dari satu detik. Di zona pemanasan, tingkat keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap stabil, yaitu antara ±0,1°C. Dengan demikian, photoresist akan mendapatkan kondisi &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;termal&lt;/a&gt; yang sama setiap siklusnya. Di ruang bersih kelas 1–100, proses perakitan berjalan tanpa adanya partikel-partikel kotor, sehingga permukaan mask, lensa, dan wafer tetap bersih.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
