http://industrial-heating-ir.com/it/tags/cottura-in-forno/ Recent content in Cottura in Forno on Industrial IR Heating Solutions Hugo it Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800 http://industrial-heating-ir.com/it/posts/photoresist-baking-lamp/ Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800 http://industrial-heating-ir.com/it/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://industrial-heating-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Lampada per essiccazione del fotorestist"></p> <p>Nella fase di litografia, una variazione di 1°C durante il processo di essiccazione del fotorestatto non influisce soltanto sulla larghezza delle linee disegnate sul wafer. Questa variazione compromette anche il controllo della distanza tra i segni, influisce sull’angolo delle pareti laterali del wafer e riduce la qualità del prodotto finale. Le lampade utilizzate per l’essiccazione rappresentano, quindi, degli strumenti fondamentali per <a href="https://o-yate.net">mantenere</a> il controllo termico all’interno della sala pulita.</p> <p>Ecco cosa è importante dal punto di vista tecnico: le lampade utilizzate devono assicurare una uniformità della temperatura pari a ±0,1°C su tutto il wafer, grazie all’uso di sorgenti a infrarossi a lunghezza d’onda corta abbinate a sistemi termici basati su quarzo. La precisione dei valori di temperatura rimane costante in tutto l’intervallo di essiccazione, sia a basse che ad alte temperature, senza alcun problema di overshoot.</p>