Lampada per asciugatura wafer economica

Mon, 08 Jun 2026 05:17:18 +0800

Sulla linea di produzione, una deriva nella temperatura di asciugatura dei wafer si manifesta rapidamente—proprio nel profilo del fotoresist. La si nota come T-topping dopo lo sviluppo e come variazione nel controllo della larghezza delle linee dopo l’incisione. Abbiamo realizzato una lampada per asciugatura a basso costo per escludere la deriva termica dall’equazione.

Cosa conta dal punto di vista tecnico
Questa lampada sfrutta l’infrarosso a onda corta per ottenere un riscaldamento rapido e localizzato con risposta inferiore al secondo. È destinata alle fasi di soft bake e hard bake, mantenendo la ripetibilità del setpoint entro ±0,1°C su tutto il wafer. Ciò garantisce uniformità sulle dimensioni critiche senza superare il budget termico del fotoresist.
Il filamento e la busta di quarzo sono progettati per ambienti cleanroom Class 1–100, e abbiamo verificato l’assenza di generazione di particelle tramite monitoraggio in situ. L’emissione resta stabile per oltre 5.000 ore, con un calo di intensità inferiore al 5%.

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Lampada per asciugatura wafer economica