Lampada per cottura spin coater

Wed, 03 Jun 2026 12:32:32 +0800

Out on the line, la variazione termica non è una metrica astratta. È un difetto in cerca di spazio per manifestarsi. Uno scostamento di 2°C durante il soft bake del photoresist può compromettere il controllo delle dimensioni critiche, e un profilo termico impreciso durante l’asciugatura del wafer rappresenta un invito aperto a formazione di edge bead e contaminazione da particelle. Abbiamo progettato le nostre lampade per bake spin coater per eliminare questa incertezza.

What matters under the hood
Utilizziamo emettitori a infrarossi a onda corta inseriti in un corpo lampada in quarzo, con controllo della temperatura a circuito chiuso che mantiene un’uniformità a livello wafer di ±0.1°C sull’intera superficie di rotazione. La risposta è inferiore al secondo, quindi al variare del setpoint la lampada si adegua immediatamente mantenendo intatto il budget termico. La compatibilità con le cleanroom non è un’aggiunta; è progettata per ambienti Class 1–100. L’assemblaggio non genera particelle durante il funzionamento e il design a basso outgassing previene la contaminazione della camera di processo.

Rivestitrice on Industrial IR Heating Solutions

Lampada per cottura spin coater