Lampada riscaldante TEL (Tokyo Electron)

Tue, 02 Jun 2026 06:16:30 +0800

Out on the fab floor, sai come funziona: una soft bake che devia anche di due gradi può compromettere dimensioni critiche e trasformare molti pezzi in scarti. L’uniformità della temperatura sul wafer non è un “nice-to-have”. È un requisito inderogabile. Le lampade riscaldanti TEL forniscono alle celle di litografia il controllo termico necessario, ciclo dopo ciclo.

Cosa conta sotto il cofano
Progettiamo la lampada intorno a un’emissione a infrarossi a onde corte e a un design quarzo-alogeno, calibrato per trasferire calore rapidamente e in modo ripetibile su fotoresist e substrato. Sulla superficie di bake, l’uniformità a livello wafer si mantiene entro ±0,1°C e la ripetibilità del setpoint è nell’ordine dei millisecondi. Il sistema si integra in cleanroom di Classe 1–100 senza aumentare il conteggio delle particelle; la generazione di particelle nulla è verificata dal monitoraggio in linea durante la qualificazione. La potenza rimane stabile dall’avvio oltre 5.000 ore di funzionamento, con una deriva di output contenuta sotto il 5% in duty continuo.

(Tokyo on Industrial IR Heating Solutions

Lampada riscaldante TEL (Tokyo Electron)