Calore ad alta precisione per IR dei wafer
Nelle linee di produzione, si impara rapidamente che anche un cambiamento di soli 0,5°C nella temperatura di cottura del fotoresta può causare...
Lampada di riscaldamento per il test di usura dei wafer
Nelle sale di produzione, le fluttuazioni termiche durante i processi di “burn-in” o di essiccazione del fotorester si manifestano rapidamente: si...
Riscaldatore a livello di wafer CSP (Chip Scale Package)
Nelle linee di produzione, le variazioni di temperatura non sono tollerabili: rappresentano un ostacolo insormontabile. Anche una piccola variazione...
Lampada per asciugatura wafer economica
Sulla linea di produzione, una deriva nella temperatura di asciugatura dei wafer si manifesta rapidamente—proprio nel profilo del fotoresist. La si...
Cura della poliimmide per la fabbricazione di wafer
Sulla linea di produzione, la polimerizzazione del poliimmide non è solo un passaggio qualsiasi, ma una leva sulla resa. Spostare la temperatura di...