Vacuum IR berbanding Forced Air: Yang mana satu sebenarnya dapat memindahkan tenaga?
Jika anda sedang memilih ruang vakum untuk digunakan dalam proses penghasilan semikonduktor, anda sebenarnya sedang memilih cara untuk memindahkan tenaga. Ramai orang memilih kaedah penggunaan udara panas. Namun, masalahnya ialah kaedah ini bergantung pada proses konveksi. Dalam keadaan vakum, proses konveksi tidak berfungsi. Anda tidak boleh menggunakan udara untuk memindahkan haba apabila tiada udara yang boleh digunakan. Di sinilah peranan pemanas IR. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk menghantar tenaga terus ke permukaan wafer.
Kos tersembunyi akibat menunggu
Fikirkan tentang masa yang diperlukan. Dengan kaedah udara panas, anda perlu menunggu sehingga seluruh ruang vakum menjadi panas sebelum bahan kerja dapat mencapai suhu yang diinginkan. Ini merupakan proses yang memakan masa. Pemanas IR pula berbeza. Ia dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja. Ini sangat penting apabila anda perlu melakukan pemprosesan yang cepat. Dengan cara ini, anda tidak perlu membuang masa untuk memanaskan ruang kosong.
Penjimatan ruang
Selain itu, pemanas IR juga membantu menjimatkan ruang. Anda tidak perlu menggunakan alat peniup udara yang besar dan saluran udara yang rumit. Kita biasanya menggunakan pemanas IR secara berkelompok. Ini membolehkan haba tersebar secara merata di permukaan wafer, dan membolehkan kita mengawal jumlah haba yang sampai ke permukaan wafer dengan lebih baik.
Kelemahan
Namun, pemanas IR bukanlah penyelesaian yang sempurna. Walaupun ia sangat efektif, tenaga yang dihasilkan harus ditumpahkan ke suatu tempat. Jika sistem penyejukan air tidak berfungsi dengan baik, radiasi tersebut akan merosakkan dinding ruang vakum. Ini akan menyebabkan bentuk wafer menjadi tidak normal atau sensor menjadi rosak. Ini merupakan pertukaran antara kecekapan dan risiko yang perlu dihadapi. Anda boleh mengelakkan kelemahan udara, tetapi anda perlu lebih berhati-hati dalam menguruskan haba.
Bagi mereka yang ingin meningkatkan kelajuan proses pengeluaran, pemanas IR merupakan pilihan yang terbaik. Ia dapat mengatasi masalah kelewatan yang timbul akibat proses pemanasan udara. Anda tidak perlu menunggu lagi, sebaliknya boleh terus memproses wafer tersebut.