IR on Industrial IR Heating Solutions

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Thu, 23 Jul 2026 11:52:12 +0800

Hentikan Pembaziran Tenaga Panas: Mengapa Penggunaan Reflektor Emas Sangat Penting

Ketika kita memanaskan wafer silikon, setiap watt tenaga merupakan sumber yang berharga. Kebanyakan orang menggunakan reflektor aluminium biasa, tetapi masalahnya ialah aluminium menyerap terlalu banyak tenaga. Ia menyerap haba tersebut daripada menghantarnya ke tempat yang sepatutnya.

Itulah sebabnya kita menggunakan emas. Walaupun kedengaran mewah, namun ia merupakan pilihan yang praktikal. Tujuannya adalah untuk memastikan tenaga inframerah sampai ke wafer, bukannya memanaskan badan mesin secara tidak perlu.

Hujung kaca seramik untuk pengeluar gelombang inframerah

Fri, 17 Jul 2026 07:34:16 +0800

Hentikan tekaan tentang suhu yang dihasilkan: Mengapa penggunaan penutup seramik sangat penting

Jika anda ingin membina sistem pembuatan yang “cerdas”, anda akan segera menyedari bahawa perisian canggih tidak akan berguna jika perkakasan yang digunakan masih berada pada tahap yang primitif. Biasanya, masalah utamanya bukanlah elemen pemanas itu sendiri, tetapi titik sambungan di mana arus elektrik sampai ke elemen pemanas tersebut.

Itulah sebabnya penutup seramik diperlukan.

Masalah dengan bahan logam

Kebanyakan orang memilih penutup logam biasa. Ia murah dan mudah digunakan. Namun, emiter IR yang menghasilkan haba yang tinggi akan menjadi sangat panas. Logam tidak mampu menahan tekanan haba sebegini. Akhirnya, haba tersebut akan kembali ke sumber bekalan kuasa, sehingga menyebabkan kabel terbakar dan sistem menjadi tidak berfungsi.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 09 Jul 2026 03:26:25 +0800

Kami mencipta lampu inframerah yang menggunakan reflektor aluminium ini untuk kegunaan di tempat-tempat di mana masa henti adalah sesuatu yang tidak boleh diterima—dan keselamatan pula merupakan perkara yang sangat penting. Tujuannya adalah untuk menghasilkan haba yang tepat pada tempat yang diperlukan, pada waktu yang diperlukan.

Kami menggabungkan penjana inframerah berkuasa tinggi dengan reflektor aluminium yang dibuat dengan ketepatan yang tinggi. Hasilnya? Haba yang dihasilkan akan sampai ke sasaran yang ditentukan, tanpa tersebar ke tempat lain.

Haba berketepatan tinggi untuk wafer IR

Mon, 29 Jun 2026 07:22:50 +0800

Di pabrik pembuatan semikonduktor, seseorang akan segera menyedari bahawa perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan fotoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, dalam skala nanometer. Sistem pemanasan IR untuk wafer perlu memberikan profil termal yang konsisten dari satu sesi pemprosesan ke sesi yang lain, tanpa menimbulkan partikel berbahaya atau mengganggu kelancaran proses pembuatan.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan modul pemanasan IR yang dilengkapi dengan pengeluar cahaya halogen berfrekuensi tinggi, serta sistem kawalan berkelompok. Ini memastikan ketekalan suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan. Respons sistem ini sangat cepat, jadi profil termal tetap stabil, dan dimensi kritikal bahan tetap konsisten. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, kerana ia menggunakan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang dapat mengurangkan penjanaan partikel berbahaya. Kuasa keluaran sistem ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.