<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Membakar on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/ms/tags/membakar/</link>
		<description>Recent content in Membakar on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/ms/tags/membakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk memanaskan bahan photoresist</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk memanaskan bahan photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran boleh menjejaskan ketebalan garisan yang dihasilkan. Ia juga boleh mengganggu kawalan parameter CD, menyebabkan perubahan pada sudut dinding sisi, dan seterusnya mempengaruhi kualiti produk yang dihasilkan. Lampu pembakaran ini berfungsi sebagai alat untuk mengawal suhu di dalam bilik bersih.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya ialah lampu pembakaran tersebut mampu memastikan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C. Ini dicapai dengan menggunakan sumber inframerah gelombang pendek bersama-sama dengan sistem pemanasan berasaskan kuarsa. Kekonsistenan suhu dapat dikekalkan sepanjang proses pembakaran, daripada suhu rendah hingga suhu tinggi, tanpa berlaku penyimpangan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
