Mengeringkan on Industrial IR Heating Solutions

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Fri, 26 Jun 2026 05:19:42 +0800

Di dalam bilik pencucian yang canggih ini, kita tidak selalu dapat melihat masalah yang akan berlaku. Perbezaan kecil dalam keseragaman suhu semasa proses pengeringan boleh menyebabkan peningkatan penggunaan tenaga serta peningkatan jumlah bahan buangan. Dalam proses pengeringan selepas pembersihan, kita memerlukan tahap kestabilan yang sangat tinggi. Kawasan yang berpendarahan haba, walaupun sedikit sahaja, akan menyebabkan kecacatan pada produk yang dihasilkan. Selain itu, proses pemanasan yang tidak efisien hanya akan membuang tenaga dan menyukarkan kerja di bilik bersih tersebut.

Mentol lampu pengering wafer yang murah

Mon, 08 Jun 2026 05:17:19 +0800

Di lantai fabrikasi, perubahan suhu pengeringan wafer dapat dilihat dengan cepat—terutamanya pada profil photoresist. Ia didapati sebagai T-topping selepas proses develop, dan sebagai kawalan lebar garis yang tergelincir selepas proses etch. Kami membina mentol lampu pengering kos rendah untuk menghapuskan drift termal daripada persamaan.

Apa yang penting dari segi teknikal
Mentol ini bergantung pada inframerah gelombang pendek untuk mencapai pemanasan cepat dan setempat dengan tindak balas dalam sub-saat. Ia menyasarkan langkah soft bake dan hard bake, mengekalkan kebolehulangan setpoint dalam ±0.1°C di seluruh wafer. Ini mengekalkan keseragaman dimensi kritikal tanpa melebihi bajet terma photoresist.

Lampu pengering paparan fleksibel fab

Mon, 01 Jun 2026 20:32:05 +0800

On the flexible display line, the photoresist bake isn’t a background step. It’s a yield gate.
A 1°C drift in soft bake or hard bake will shift critical dimension and bring scumming along for the ride. The drying lamp can’t be another variable. It has to be the thermal constant.

What actually matters

We built the flexible display drying lamp around repeatable heat delivery. Halogen sources throw short-wave energy at the surface, so you get rapid, surface-led drying. If you’re running thicker films or thermally sensitive stacks, medium-wave and NIR configurations are available.
Expect ±0.1°C wafer-level uniformity across the active zone, and setpoint control that stays within ±0.5°C even when line voltage swings. The system runs in Class 1–100 cleanrooms without stirring particles: sealed quartz envelopes, low-outgassing fixtures, and a laminar airflow path that keeps particle counts flat.
Output holds within 2% over 5,000+ hours. The lamp module drops straight into standard track interfaces, with 24 V control and solid connector options.