<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengeringan on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/ms/tags/pengeringan/</link>
		<description>Recent content in Pengeringan on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 19 Jul 2026 16:25:26 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/ms/tags/pengeringan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 19 Jul 2026 16:25:26 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mengapa anda sebaiknya berhenti menggunakan udara panas untuk proses pengeringan wafer menggunakan teknologi IR&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Jika anda bekerja dalam bidang pembuatan MEMS, anda pasti tahu betapa menyusahkannya proses pengeringan wafer setelah proses etching atau pembersihan. Ini merupakan halangan besar dalam proses pengeluaran. Kebanyakan kilang yang saya kunjungi masih menggunakan kaedah udara panas untuk mengeringkan wafer. Ia merupakan cara lama yang masih digunakan, tetapi sejujurnya, ia &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sangat&lt;/a&gt; lambat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Udara memang tidak begitu efektif dalam mentransfer haba. Anda perlu menunggu cukup lama agar udara dapat menembusi permukaan cecair sebelum cecair tersebut mula menguap. Ini sangat menyusahkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
