Fotoresistentverhittingslamp

Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800

Op de lithografieafdeling heeft een verschil van 1°C bij het verhitten van het fotoreistent niet alleen invloed op de breedte van de lijnen. Het beïnvloedt ook de controle over de CD-waarde, de hoek van de zijkanten en uiteindelijk ook de productiekwaliteit. De verhittingslampen zijn dus de ‘stille bewakers’ van de thermische controle in de schone ruimte.

Wat technisch gezien belangrijk is: we gebruiken verhittingslampen die een uniformiteit van ±0,1°C op het niveau van het wafer bereiken. Dit wordt bereikt door het combineren van kortegolflengte-infraroodbronnen met een kwartsbasisvolledig systeem voor thermische controle. De nauwkeurigheid van de temperatuurregeling blijft constant, zowel bij lage als hoge temperaturen. Er is geen sprake van overdreven temperatuurstijgingen.

Spincoater baklamp

Wed, 03 Jun 2026 12:32:32 +0800

Out on the line is thermische variatie geen abstracte grootheid. Het is een defect dat op zoek is naar een plek om op te treden. Een afwijking van 2°C tijdens de soft bake van photoresist kan de kritische dimensionale controle verstoren, en een onregelmatig warmteprofiel tijdens het drogen van wafers nodigt uit tot edge bead en deeltjescontaminatie. Wij hebben onze spin coater bake-lampen zo ontworpen dat deze onzekerheid wordt geëlimineerd.

Wat er onder de motorkap telt
We gebruiken kortegolf-infraroodstralers in een kwarts lampbehuizing, met een gesloten-lus temperatuurregeling die uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C over het spinoppervlak handhaaft. De respons is onder de seconde, dus wanneer u de setpoint wijzigt, volgt de lamp direct en blijft uw thermisch budget intact. Cleanroom-compatibiliteit is geen optionele functie; het is ontworpen voor Class 1–100 omgevingen. De assemblage genereert geen deeltjes tijdens werking en het low-outgassing ontwerp voorkomt contaminatie in de proceskamer.

Bakken on Industrial IR Heating Solutions

Fotoresistentverhittingslamp

Spincoater baklamp