<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezerve on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/nl/tags/fotorezerve/</link>
		<description>Recent content in Fotorezerve on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/nl/tags/fotorezerve/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fotoresistentverhittingslamp</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/nl/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/nl/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Fotoresistentverhittingslamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografieafdeling heeft een verschil van 1°C bij het verhitten van het fotoreistent niet alleen invloed op de breedte van de lijnen. Het beïnvloedt ook de controle over de CD-waarde, de hoek van de zijkanten en uiteindelijk ook de productiekwaliteit. De verhittingslampen zijn dus de ‘stille bewakers’ van de thermische controle in de schone ruimte.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wat technisch gezien belangrijk is: we gebruiken verhittingslampen die een uniformiteit van ±0,1°C op het niveau van het wafer bereiken. Dit wordt bereikt door het combineren van kortegolflengte-infraroodbronnen met een kwartsbasisvolledig systeem voor thermische controle. De nauwkeurigheid van de temperatuurregeling blijft constant, zowel bij lage als hoge temperaturen. Er is geen sprake van overdreven temperatuurstijgingen.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
