Wafer burntestverwarmingslamp

Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800

Op de productielijn zijn de thermische schommelingen tijdens het verhitten van de dragerstoffen snel zichtbaar – dit leidt tot afwijkingen in de dikte van de lijnen en een lagere opbrengst. Als de parameters voor het verhitten niet nauwkeurig worden gecontroleerd, ontstaan er restanten na het eten van de dragerstoffen, waardoor er meer fouten optreden. Wij hebben ons systeem voor het verhitten van de wafers zo ontworpen dat deze variabiliteit wordt weggenomen.

Het hart van dit systeem is een halogeenlamp met kortegolf-infraroodlicht, geplaatst in een kwartsomhulsel. Deze lamp zorgt voor snelle, lokale verhitting met een reactietijd van minder dan een seconde. Hierdoor blijft de uniformiteit van de temperatuur op het niveau van de wafel binnen ±0,1°C. Op deze manier krijgt de dragerstof elke keer dezelfde thermische omstandigheden. In zuiverruimtes van klasse 1–100 vindt het proces plaats zonder dat er stofdeeltjes worden gegenereerd, waardoor het oppervlak van de maskers, lenzen en wafels schoon blijft.

Goedkope drooglamp voor wafers lampenbulb

Mon, 08 Jun 2026 05:17:18 +0800

Op de productievloer valt een afwijking in de waferdroogtemperatuur snel op—direct in het profiel van de photoresist. Dit is zichtbaar als T-topping na het developen en als verslechtering van de lijnbreedtecontrole na het etsen. We hebben een goedkope drooglamp ontworpen om thermische drift uit de vergelijking te houden.
Wat technisch van belang is
Deze lamp maakt gebruik van kortegolf-infrarood voor snelle, gerichte verwarming met een reactietijd van minder dan een seconde. Het richt zich op de soft bake- en hard bake-stappen, waarbij de setpoint-herhaalbaarheid binnen ±0,1°C over de wafer wordt gehouden. Dit behoudt de uniformiteit van de kritische afmetingen zonder de thermische budgettering van de photoresist te overschrijden.
Het gloeidraad en de kwarzen envelop zijn ontworpen voor gebruik in Class 1–100 cleanrooms, en we hebben geverifieerd dat er geen deeltjes vrijkomen via in-situ monitoring. De output blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met een intensiteitsdaling van minder dan 5%.
Waarom het werkt in echte lithografie-cellen
De lamp kan direct in bestaande coat/bake-tracks worden geplaatst—herkwalificatie van de gehele oven is niet nodig. De snelle opwarmtijd verkort het bake-venster, waardoor de cyclustijd afneemt terwijl het hard bake-profiel nauwkeurig genoeg blijft voor etsen en implantatietoleranties.
Het energieverbruik is lager dan bij systemen met een volledige chamber, en wanneer vervanging nodig is, betreft het een eenvoudige veldvervanging zonder dat de gehele thermische stapel opnieuw gekalibreerd hoeft te worden. Dit resulteert in voorspelbare procescontrole, minder afval en minder ongeplande stops.
Aandachtspunten
De lamp past in standaardhouders en aansluitingen, maar controleer de reflector-geometrie en aperture van uw coater of droger. De lichtintensiteit is afgestemd op waferdroging en photoresist baking—niet geschikt als vervanging voor hoogtemperatuurannealers.
Houd het kwarzen oppervlak vrij van residuen en zorg ervoor dat de luchtstroming in de cleanroom geen thermische gradients over de wafer veroorzaakt.

Wafer on Industrial IR Heating Solutions

Wafer burntestverwarmingslamp

Goedkope drooglamp voor wafers lampenbulb