
Na área de fabricação, as flutuações térmicas durante o processo de “burn-in” ou secagem do fotorresistente aparecem rapidamente – causando variações no espessura das linhas e reduzindo a eficiência do processo. Se os parâmetros de aquecimento não forem controlados, surgem resíduos após o processo de etching, e os defeitos aumentam. Desenvolvemos um sistema de iluminação para o “burn-in” das wafer, com o objetivo de eliminar essa variabilidade.
O coração desse sistema é uma lâmpada halógena a infravermelho de onda curta, localizada dentro de um invólucro de quartzo. Essa lâmpada permite um aquecimento rápido e localizado, com resposta em menos de um segundo. Na zona de aquecimento, a uniformidade da temperatura ao longo da superfície da wafer fica entre ±0,1°C, garantindo que o fotorresistente receba a mesma temperatura em cada ciclo. Em salas limpas de classe 1–100, o processo é realizado sem geração alguma de partículas, mantendo assim as superfícies da máscara, das lentes e da wafer limpas.
A performance do sistema permanece estável por mais de 5.000 horas, com uma queda de menos de 5%. Isso permite que o sistema funcione 24/7, sem necessidade de recalibração constante.
É aí que a lâmpada se mostra útil: ela ajusta a temperatura de aquecimento de acordo com as características do fotorresistente, permitindo que o processo de crosslinking ocorra antes da litografia. Além disso, ela elimina pontos quentes durante o processo de “burn-in”. O resultado é um controle mais preciso do espessura das linhas, menos necessidade de retrabalho e ciclos de qualificação mais previsíveis. O consumo de energia também diminui, pois a lâmpada aquece apenas o alvo, e não toda a câmara.
A instalação é simples: basta compatibilizar a interface de conexão da ferramenta com a lâmpada e verificar se há espaço suficiente para o feixe óptico. A lâmpada opera com alta intensidade, portanto é necessário ter proteções adequadas para proteger os operadores e os equipamentos próximos. É preciso também realizar inspeções regulares no quartzo, para manter tudo limpo e dentro dos padrões térmicos desejados.