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		<title>Fotorevestido on Industrial IR Heating Solutions</title>
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				<title>Lâmpada de secagem de fotorresistente</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lâmpada de secagem de fotorresistente&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No processo de litografia, uma variação de 1°C no tempo de secagem do fotoresist não afeta apenas a largura das linhas desenhadas na superfície dos waferes. Isso também prejudica o controle da espessura do filme formado, altera o ângulo das &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;paredes&lt;/a&gt; laterais e afeta a qualidade final dos produtos. As lâmpadas de secagem são, portanto, essenciais para manter a disciplina térmica dentro da sala limpa.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;O que é importante tecnicamente é a capacidade dessas lâmpadas de manter uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C nos waferes. Isso é possível graças ao uso de fontes de infravermelho de onda curta, combinadas com um sistema térmico baseado em quartzo. A repetibilidade dos parâmetros de temperatura permanece alta, desde ciclos de secagem em baixas temperaturas até ciclos em &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;altas&lt;/a&gt; temperaturas, sem que haja desvios excessivos.&lt;/p&gt;</description>
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