Aquecimento por infravermelho no processo de cinza

Sat, 06 Jun 2026 04:13:08 +0800

No chão de fábrica, a queima por plasma não pode ser tratada como uma caixa preta. Resíduos de fotoresiste após a remoção comprometem seu rendimento, e se o perfil térmico não for estável, é possível perder um lote inteiro. A queima por plasma infravermelho com aquecimento controlado oferece um orçamento térmico repetível, todas as vezes.

O que importa, tecnicamente
Atacamos o fotoresiste diretamente com emissores de infravermelho de onda curta — calor rápido e acoplado que penetra no resist, não no substrato. Isso mantém a frente de queima sob controle e garante uniformidade no nível do wafer dentro de ±0,1°C. A ferramenta é projetada para Cleanroom Classe 1–100: um conjunto vedado, com baixa emissão de gases e um caminho térmico que permanece livre de partículas.
A geração zero de partículas não é apenas um slogan. É assegurada pelas escolhas de material, montagem limpa e um design que evita fluxos de ar turbulentos. O sistema também mantém a temperatura do bake do fotoresiste estável durante os perfis de soft bake e hard bake, com repetibilidade consistente de lote a lote.

Processo on Industrial IR Heating Solutions

Aquecimento por infravermelho no processo de cinza