Wafer IR için yüksek hassasiyetli ısıtma
Üretim alanında, fotoresistin pişirilme sıcaklığında meydana gelen 0,5°C’lik bir değişikliğin bile kritik boyutları nanometreler ölçeğinde...
Wafer yanma testi ısıtma lambası
Üretim alanında, kalıplama veya fotoresistin pişirilmesi sırasında meydana gelen sıcaklık değişimleri hızla kendini gösterir; bu da çizgi...