<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Тепло on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/uk/tags/%D1%82%D0%B5%D0%BF%D0%BB%D0%BE/</link>
		<description>Recent content in Тепло on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:22:51 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/uk/tags/%D1%82%D0%B5%D0%BF%D0%BB%D0%BE/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Високоточне нагрівання для ІЧ процесів з використанням пластинок</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/uk/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:22:51 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/uk/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Високоточне нагрівання для ІЧ процесів з використанням пластинок&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії швидко розумієш, що навіть зміна температури нагрівання фоторезисту на 0,5°C може призвести до зміни критичного розміру на кілька нанометрів. Процес нагрівання пластини за допомогою ІЧ-системи мусить забезпечувати стабільні теплові параметри з кожною процедурою, без утворення частинок чи зниження продуктивності обладнання.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у цьому процесі&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми використовуємо модулі нагрівання з короткочастотними галогеновими емітерами та системою контролю з замкнутим контуром. Це дозволяє підтримувати однорідність температури на поверхні пластини на рівні ±0,1°C протягом усього процесу нагрівання. Час реакції системи становить менше секунди, тож теплові параметри залишаються стабільними. Конструкція модуля підходить для використання в чистих приміщеннях класу 1–100; використовуються матеріали з низьким рівнем випаровування, а також конструкція, яка запобігає утворенню частинок. Сила випромінювання залишається стабільною протягом понад 5 000 годин, з допуском зміни не більше 5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
