<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Baking on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/uk/tags/baking/</link>
		<description>Recent content in Baking on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/uk/tags/baking/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для висушування фотополімеру</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/uk/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:30:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/uk/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Лампа для висушування фотополімеру&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні плити для літографії зміна температури на 1°C під час процедури висушування не лише впливає на ширину ліній, але й порушує контроль над їх геометрією, змінює кут нахилу бічних стінок плити та негативно впливає на якість продукції. Лампи для висушування є своєрідними „поліцейськими“, які контролюють температурний режим у чистій кімнаті.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;З технічної точки зору важливо те, що лампи для висушування забезпечують стабільність температури на рівні ±0,1°C через поєднання джерел короткохвильового інфрачервоного випромінювання з кварцовими елементами для контролю температури. Стабільність значень температури зберігається протягом усього діапазону температур – від низьких температур при м’якому висушуванні до високих температур при жорсткому висушуванні, без жодних відхилень.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
