<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Burn on Industrial IR Heating Solutions</title>
		<link>http://industrial-heating-ir.com/uk/tags/burn/</link>
		<description>Recent content in Burn on Industrial IR Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-heating-ir.com/uk/tags/burn/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Тестування на пошкодження ваферів за допомогою нагрівальної лампи</title>
				<link>http://industrial-heating-ir.com/uk/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:08:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-heating-ir.com/uk/posts/wafer-burn-in-test-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-heating-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Тестування на пошкодження ваферів за допомогою нагрівальної лампи&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні пластини швидко проявляються температурні коливання під час процедури нагрівання або випалювання фотолаку – це призводить до зміни ширини ліній та зниження якості продукції. Якщо допустити відхилення параметрів нагрівання, то після процедури етчінгу залишаться залишки речовин, що призведе до проблем у роботі обладнання. Ми створили систему нагріву пластин, яка дозволяє усунути ці відхилення.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Серцем цієї системи є галогенна лампа короткохвильового інфрачервоного світла, розташована в кварцовому корпусі. Вона забезпечує швидке та локалізоване нагрівання з часом реакції менше секунди. У всій зоні нагрівання однорідність температури на поверхні пластини залишається в межах ±0,1°C, тож фотолак отримує однаковий температурний режим на кожному етапі обробки. У чистих приміщеннях класу 1–100 процес обробки відбувається без утворення частинок, що забезпечує чистоту поверхні маски, лінз та самої пластини.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
