Op de productielijn is het procedé bekend: een afwijking van een halve graad tijdens het verhitten van de fotoresist kan ertoe leiden dat de benodigde specificaties niet meer worden nageleefd. Hierdoor kan een hele lading producten onbruikbaar raken. Thermische gelijkmatigheid en chemische zuiverheid zijn geen cijfers op een display – ze bepalen of het mogelijk is om producten te maken of dat alles als afval moet worden weggegooid.
Wat er echt toe doet We gebruiken infraroodlampen zonder ozon. Hierdoor wordt geen ozon vrijgegeven, zodat de luchtkwaliteit in de schone ruimte niet wordt beïnvloed, zelfs niet in ruimtes met klasse 1–100. De emissie van het licht is zo ingesteld dat de fotoresist snel wordt geabsorbeerd. De gelijkmatigheid op het oppervlak van de wafer is zeer hoog: ±0,1°C over het hele oppervlak.
Het aantal deeltjes blijft laag omdat de kwartskoepels goed afgesloten zijn en de apparaten geschikt zijn voor gebruik in schone ruimtes. Het apparaat blijft koel, waardoor de optica en alle andere onderdelen beschermd blijven. De herhaalbaarheid van het proces is zo hoog dat de parameters altijd binnen de vereiste toleranties blijven, zelfs na 5.000 uur gebruik.
Waarom dit belangrijk is in de lithografie Deze lampen vervangen oude systemen die altijd risico’s met zich meebrachten, zoals het ontstaan van ozon en onstabiele temperatuurwaarden. Voor zowel zachte als harde verhittingsprocessen is de reactietijd voldoende kort, zodat de thermische veranderingen beperkt blijven. Hierdoor kan de productie efficiënter verlopen en wordt er minder solvent gebruikt.
De concentratie defecten neemt af, er is minder herwerking nodig en de controle van de diameter van de wafer wordt beter. De energieverbruik neemt ook af, omdat de NIR-technologie efficiënt werkt en minder warmte produceert. De onderhoudsintervallen worden langer, want er is geen risico dat de filamenten na verloop van tijd beschadigen.
Wat je van tevoren moet regelen Het gaat erom dat de geometrie van de reflectoren en de brandpuntsafstand passen bij het pad van het substraat. Ook moet de uitstroom van het licht worden aangepast aan de thermische belasting van wafern van 200 mm en 300 mm.
De lamp werkt op netstroom met een bepaalde inrushstroom. De besturingselektronica moet dus goed worden geconfigureerd, zodat er geen overbelasting optreedt door thermische cycli. Er is een korte opwarmtijd nodig om een thermisch evenwicht te bereiken. Ook moet de luchtstroom goed worden geregeld, zodat de nabije componenten binnen hun thermische grenzen blijven.