Proč byste pravděpodobně měli opustit použití horkého vzduchu ve prospěch sušení waferů pomocí infrazáření Pokud pracujete v oblasti výroby MEMS...

V samotné výrobní hale ne vždy vidíte, že se blíží problém. I malé odchylky v rovnoměrnosti teploty během sušení mohou vést ke zvýšené spotřebě...

Na výrobní lince se drift teploty sušení wafru projeví rychle—přímo v profilu fotorezistu. Vidíte to jako T-topping po vývoji a jako posun v řízení...

Na lince pro flexibilní displeje není pečení fotoresistu okrajovým krokem. Je to kontrolní bod výtěžnosti. Posun o 1°C při měkkém nebo tvrdém pečení...