Di pabrik pembuatan semikonduktor, seseorang akan segera menyedari bahawa perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan fotoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, dalam skala nanometer. Sistem pemanasan IR untuk wafer perlu memberikan profil termal yang konsisten dari satu sesi pemprosesan ke sesi yang lain, tanpa menimbulkan partikel berbahaya atau mengganggu kelancaran proses pembuatan.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan modul pemanasan IR yang dilengkapi dengan pengeluar cahaya halogen berfrekuensi tinggi, serta sistem kawalan berkelompok. Ini memastikan ketekalan suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan. Respons sistem ini sangat cepat, jadi profil termal tetap stabil, dan dimensi kritikal bahan tetap konsisten. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, kerana ia menggunakan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang dapat mengurangkan penjanaan partikel berbahaya. Kuasa keluaran sistem ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.
Mengapa ini penting dalam proses litografi
Dalam proses litografi, yang paling penting adalah kawalan suhu. Proses pemanasan yang efektif memastikan suhu mencapai titik sasaran dengan cepat dan tetap stabil, sehingga ketebalan fotoresist, bentuk tepi bahan tersebut, dan dimensi kritikalnya tetap dapat diprediksi. Dengan demikian, hasil pembuatan menjadi lebih berkualiti, jumlah bahan yang perlu dibuang berkurangan, dan penggunaan tenaga juga berkurang. Sistem ini juga mudah digunakan dalam peralatan semikonduktor biasa, kerana ia mematuhi standard antarabangsa dari segi antarmuka dan sistem kawalan.
Apa yang perlu anda pertimbangkan
Semasa pemasangan, pastikan komponen mekanikal dan antarmuka elektrik peralatan tersebut sesuai dengan platform yang digunakan. Periksa jenis konektor, voltan, dan keserasian sistem penyejukan dengan platform tersebut. Anda perlu melakukan ujian singkat untuk menyesuaikan profil termal agar sesuai dengan jenis wafer yang akan diproses. Kuasa keluaran sistem ini dipilih sedemikian rupa agar tidak terlalu tinggi. Pertimbangkan batasan ini semasa merancang penggunaan sistem ini, agar ia dapat beroperasi 24/7 dengan penyelenggaraan rutin.