Mengapa lini penghasilan biosensor anda mungkin terlalu perlahan (dan cara untuk memperbaikinya) Ketika membuat biosensor, proses pemanasan dan...

Mengelakkan Bahaya Dengan Lampu Inframerah Berlapis Emas Dalam Proses Pembersihan Kimia Ketika bekerja dengan mesin pembersihan berasaskan...

Berhenti memanaskan peralatan tersebut, bukannya wafer yang sepatutnya dipanaskan. Dalam fasiliti pengeluaran semikonduktor, memanaskan benda yang...

Mengelakkan Lampu IR daripada Merosakkan Peralatan Elektrik Anda Air dan elektrik tidak boleh bercampur. Kita semua tahu hal ini. Namun, apabila...

Mengawal Keselamatan Lampu Berlapis Emas Jenis Twin Tube Jika anda menggunakan lampu berlapis emas jenis twin tube, anda pasti tahu bahawa lampu ini...

Mengurangkan Pelepasan Karbon dalam Proses Pengeluaran: Mengapa Lampu Inframerah UHP Berkesan Jika anda mengendalikan kilang pengeluaran separa siap,...

Memanfaatkan Tenaga Inframerah Sepenuhnya Jika anda bekerja di bilik bersih, pembaziran tenaga bukan sahaja tidak efisien, tetapi juga menyusahkan....

Melindungi Lampu Inframerah Daripada Bahan Kimia yang Mudah Terbakar Sejujurnya, menggunakan lampu inframerah di persekitaran yang penuh dengan bahan...

Membuat fasiliti pengeluaran anda lebih cekap dengan penggunaan lampu pemanasan berbahan karbon fiber Jika anda masih menggunakan elemen pemanasan...

Kami mencipta lampu inframerah yang menggunakan reflektor aluminium ini untuk kegunaan di tempat-tempat di mana masa henti adalah sesuatu yang tidak...

Lampu Inframerah Berlapis Emas yang Cekap: Menghasilkan Panas yang Tepat untuk Wafer Bio-Sensor Dalam pembuatan bio-sensor, haba bukan sekadar faktor...

Pendahuluan Kami mencipta lampu RTP berkualiti tinggi ini agar ia dapat berfungsi dengan baik di fasiliti pengeluaran semikonduktor – tepat di...

Di bilik proses pembuatan wafer, perubahan suhu semasa proses pembakaran atau pengeringan bahan fotoresist berlaku dengan cepat – ini menyebabkan...

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran boleh menjejaskan ketebalan garisan yang dihasilkan. Ia juga boleh...

Di bilik pengeluaran, prosedurnya sudah diketahui. Sebarang perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist boleh...

Di bahagian litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan ketebalan garisan pada imej yang...

Di lantai fabrikasi, perubahan suhu pengeringan wafer dapat dilihat dengan cepat—terutamanya pada profil photoresist. Ia didapati sebagai T-topping...

Di lantai pembuatan, waktu henti yang tidak dirancang tidak memerlukan analisis post-mortem—anda melihatnya dalam wafer yang hilang dan tingkap...

Out on the line, variasi terma bukan sekadar metrik abstrak. Ia adalah kecacatan yang menunggu untuk berlaku. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa...

Out on the fab floor, anda sudah tahu bagaimana keadaannya: soft bake yang berubah walaupun dua darjah boleh menyebabkan dimensi kritikal menjadi...

On the flexible display line, the photoresist bake isn’t a background step. It’s a yield gate. A 1°C drift in soft bake or hard bake will shift...