リソグラフィーの工程において、焼成温度が0.5℃変動するだけで、線幅はナノメートル単位で変わってしまいます。それにより、何時間もかけて行った作業が無駄になってしまいます。私たちは、このような温度変動を未然に防ぐために、調光可能な半導体ヒーターランプを開発しました。これにより、熱制御を再現性のあるプロセスとして実現できます。
技術的に重要な点 このランプは、迅速な応答性と安定したスペクトル出力を実現するために、石英製のケース内に短波長の赤外線素子を搭載しています。半導体用ドライバーによって0.1％の精度で出力が制御されるため、校正された高温計や工具の設定値に基づいて閉ループ制御を行うことができます。焼成エリア全体での温度均一性は±0.1℃以内であり、繰り返し使用しても設定値の再現性は±0.2℃以下です。
この装置は、クラス1～100の清浄室での使用に適しています。ガス放出が少なく、粒子の飛散もない上、定期的に清掃を行っても位置合わせが崩れないように設計されています。
実際に効果的な理由 フォトレジストのソフトベイクやハードベイクには、厳格で一貫性のある温度管理が必要です。このランプを使えば、レシピで指定された正確な温度でソフトベイクを行い、その後ハードベイクに移行することができます。これにより、スキン効果や溶剤の残留が減少します。その結果、欠陥が少なくなり、寸法の精度が向上し、廃棄物も減少します。また、ランプが迅速に設定温度に到達し、安定して動作するため、電力消費も削減されます。さらに、24時間365日の運用にも耐えられる信頼性があります。
実用的な詳細 設置には、ツール側のインターロック機能やEMC適合性が必要です。ドライバーはEMIに敏感なため、インターフェース図に従って接地する必要があります。最大連続稼働時間は5,000時間以上ですが、その後は出力を再校正して、温度均一性を維持する必要があります。設定値を10％以上変更する場合は、温度が安定するまで30分間のウォームアップが必要です。また、高温計の校正を定期的に行う必要があります。そうでなければ、制御の精度は参照値次第になってしまいます。