Üretim alanında, kalıplama veya fotoresistin pişirilmesi sırasında meydana gelen sıcaklık değişimleri hızla kendini gösterir; bu da çizgi genişliklerinde sapmaların ve verimlilikte düşüşlerin olmasına neden olur. Eğer yumuşak ve sert pişirme işlemleri kontrolsüz bir şekilde gerçekleşirse, aşındırma işleminden sonra kalıntılar oluşur ve parametrik hatalar artar. Biz de bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için özel bir ısıtma sistemi geliştirdik.
Bu sistemin merkezinde, kuvars kabuğu içinde bulunan kısa dalga boylu kızılötesi halojen lambası yer alır. Bu lamba, saniyeler içinde hızlı ve yerel ısıtma sağlayacak şekilde ayarlanmıştır. Pişirme bölgesindeki waferlerdeki sıcaklık sabitliği ±0,1°C arasında kalır; böylece fotoresist her seferinde aynı sıcaklık koşullarını elde eder. Class 1–100 temiz odalarda, montaj işlemleri hiçbir parça oluşmadan gerçekleşir; böylece maske, lens ve Wafer yüzeyleri temiz kalır.
Çıkış değerleri 5.000 saatten fazla süre boyunca %5’in altında bir düşüşle stabil kalır; bu sayede 24/7 çalışma koşullarında bile sürekli yeniden kalibrasyon yapmaya gerek kalmaz.
İşte lambanın değerli olduğu nokta burasıdır: Yumuşak pişirme sıcaklığını fotoresistin Tg değerlerine uygun hale getirir, litografiden önce sert pişirme işlemini tamamlar ve sıcak noktalar olmadan kalıplama işlemini gerçekleştirir. Böylece daha hassas kontrol mümkün olur, yeniden işleme ihtiyacı azalır ve planlama yapılabilecek daha düzenli döngüler elde edilir. Ayrıca enerji tüketimi de azalır; çünkü lamba sadece hedef alanı ısıtır, tüm odayı değil.
Kurulum oldukça basittir: Cihazın konektör arayüzüne uygun olarak lamba bağlanır ve optik yolun boş olup olmadığı kontrol edilir. Lamba yüksek yoğunlukta çalıştığı için, operatörleri ve çevredeki ekipmanları korumak için koruma önlemleri alınmalıdır. Her şeyin temiz ve termal olarak tekrarlanabilir olması için düzenli kuvars kontrolleri yapılmalıdır.