在芯片制造过程中，烧录或光阻烘烤过程中产生的温度波动会很快显现出来——表现为线宽变化以及良率下降。如果让烘烤过程的温度控制不当，那么在蚀刻之后就会留下残留物，进而导致各种参数故障的增加。我们设计的晶圆烧录加热系统就是为了消除这些不确定性。
该系统的核心是一盏装在石英外壳中的短波红外卤素灯，它能实现快速、精准的局部加热，响应时间可在几秒之内。在整个烘烤区域内，晶圆的温度均匀性可保持在±0.1°C以内，这样，每次烘烤时，光阻都能接收到相同的温度条件。在1-100级洁净室中，该系统可以确保没有颗粒物产生，从而保持掩模、镜头及晶圆表面的清洁。
该系统的输出稳定性极高，即使运行5,000小时以上，其性能下降幅度也低于5%，因此无需频繁校准即可实现24/7不间断运行。
正是由于这些优点，这款灯具才如此重要：它能够将软烘烤温度控制在光阻的Tg值范围内，确保在光刻之前完成硬烘烤过程，同时避免出现局部过热现象。这样一来，就能实现更精确的CD控制，减少返工次数，进而简化生产流程。此外，由于该系统只对目标物体进行加热，而非整个腔体，因此能耗也会降低。
安装过程非常简单：只需将灯具的接口与设备匹配，并确保光学路径畅通即可。由于该灯具的工作强度很高，因此需要采取适当的防护措施，以保护操作人员和周边设备。此外，还需要定期对石英外壳进行检查，以保持其清洁状态，确保其具备良好的热稳定性。