In der Fertigungshalle lernt man schnell, dass eine Abweichung von 0,5 °C bei der Temperatur des Fotolacks zu Abweichungen in den kritischen Dimensionen in Höhe von Nanometern führen kann. Die IR-Heizung der Wafer muss daher immer wieder ein konstantes Temperaturprofil liefern – ohne dabei Partikel in den Prozess einzubringen oder die Betriebszeit zu verringern.
Was wirklich wichtig ist: Wir verwenden IR-Heizmodule mit Kurzwellenhalogenemitttern sowie eine Schleifensteuerung, um eine Konstanz der Temperatur auf dem Wafer auf ±0,1 °C innerhalb der Heizzone zu gewährleisten. Die Reaktionszeit beträgt weniger als eine Sekunde – dadurch bleiben die Temperaturen konstant und die Parameter der Herstellungsprozesse stabil. Die Geräte sind für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet; sie verwenden Materialien mit geringer Gasemission sowie Aufbauten, die eine minimale Partikelbildung verhindern. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil, wobei die Intensitätsabweichungen unter 5 % liegen.
Warum das in der Lithografie wichtig ist: In der Lithografie geht es letztlich um die Kontrolle der Temperaturen. Bei der Weich- bzw. Hartheizung wird die Zieltemperatur schneller erreicht und länger gehalten – dadurch bleiben Dicke des Fotolacks, Randbedingungen sowie die Konstanz der kritischen Dimensionen vorhersehbar. Dadurch entstehen genauere Ergebnisse, weniger Nacharbeitsbedarf und weniger Ausschuss. Zudem sinkt der Energieverbrauch – das System heizt nur nach Bedarf auf und kühlt wieder schnell ab. Das Modul ist für herkömmliche Halbleiterfertigungsanlagen geeignet und erfüllt internationale Anschluss- und Steuerungsstandards.
Was Sie berücksichtigen müssen: Bei der Installation müssen Sie sicherstellen, dass die mechanischen Eigenschaften sowie die elektrischen Anschlüsse des Geräts zu Ihrer Plattform passen. Überprüfen Sie unbedingt den Anschlusstyp, die Spannung sowie die Kompatibilität des Kühlmittels mit Ihrer Plattform. Planen Sie außerdem eine kurze Einrichtungsphase ein, um das Temperaturprofil für Ihre speziellen Wafer anzupassen. Die Ausgangsleistungsdichte wird entsprechend dem Heizevorgang festgelegt – daher werden sehr hohe Leistungen nicht unterstützt. Berücksichtigen Sie diese Einschränkungen, dann kann das Gerät rund um die Uhr betrieben werden, sofern regelmäßige Wartungsarbeiten durchgeführt werden.