Di lantai fabrikasi, perubahan suhu pengeringan wafer dapat dilihat dengan cepat—terutamanya pada profil photoresist. Ia didapati sebagai T-topping selepas proses develop, dan sebagai kawalan lebar garis yang tergelincir selepas proses etch. Kami membina mentol lampu pengering kos rendah untuk menghapuskan drift termal daripada persamaan.
Apa yang penting dari segi teknikal
Mentol ini bergantung pada inframerah gelombang pendek untuk mencapai pemanasan cepat dan setempat dengan tindak balas dalam sub-saat. Ia menyasarkan langkah soft bake dan hard bake, mengekalkan kebolehulangan setpoint dalam ±0.1°C di seluruh wafer. Ini mengekalkan keseragaman dimensi kritikal tanpa melebihi bajet terma photoresist.
Filamen dan sarung kuarza dibina untuk penggunaan bilik bersih Kelas 1–100, dan kami mengesahkan tiada penghasilan zarah melalui pemantauan in-situ. Output kekal stabil sepanjang lebih 5,000 jam, dengan penurunan intensiti kurang daripada 5%.
Mengapa ia berkesan di sel litografi sebenar
Ia boleh terus dimasukkan ke dalam trek coat/bake sedia ada—tidak perlu mengkelaskan semula keseluruhan ketuhar. Peningkatan suhu yang pantas memendekkan tempoh bake, yang memperketat masa kitaran sambil mengekalkan profil hard bake cukup ketat untuk toleransi etch dan implant.
Penggunaan tenaga lebih rendah berbanding sistem ruang penuh, dan apabila tiba masa untuk menukar, ia adalah penggantian lapangan yang mudah. Tiada kalibrasi semula seluruh susunan terma diperlukan. Faedahnya adalah kawalan proses yang boleh diramal, kurang bahan rosak, dan pengurangan hentian tidak dirancang.
Perkara yang perlu diberi perhatian
Mentol ini sesuai dengan pemasangan dan penyambung standard, tetapi sahkan semula geometri reflektor dan apertur pada coater atau pengering anda. Intensiti output disesuaikan untuk pengeringan wafer dan baking photoresist—bukan pengganti terus untuk sumber anneal suhu tinggi.
Pastikan permukaan kuarza bersih daripada sisa, dan pastikan aliran udara bilik bersih anda tidak menghasilkan gradien terma di seluruh wafer.