웨이퍼 IR용 고정밀 가열

팹에서는 포토레지스트를 가열하는 온도가 0.5°C만 변해도 치명적인 파라미터들이 나노미터 단위로 변할 수 있다는 것을 빠르게 알게 됩니다. 웨이퍼를 가열할 때는 반복 가능한 일정한 열 프로필을 유지해야 하며, 공정 중에 이물질이 발생하거나 가동 시간이 줄어드는 일이...