Di fasiliti pengeluaran, variasi suhu bukanlah sesuatu yang boleh diterima – ia merupakan halangan yang perlu dielakkan sepenuhnya. Jika suhu berubah walaupun sebanyak satu darjah, ia akan mengganggu struktur lapisan fotoresist. Begitu juga, jika proses pematangan lapisan CSP tidak dilakukan secara seragam, ia akan menyebabkan masalah seperti pembengkokan permukaan wafer dan penurunan kualiti produk. Proses CSP pada tahap wafer hanya dapat berjalan dengan baik apabila kawalan suhu berlaku secara konsisten, dan suhu harus tetap stabil pada tahap yang sangat rendah sepanjang proses.
Inilah perkara yang penting untuk dipertimbangkan. Kami telah membina pemanas inframerah untuk proses CSP pada tahap wafer yang menggunakan pancaran gelombang pendek NIR yang disesuaikan agar sesuai dengan keperluan lapisan fotoresist dan bahan dielektrik polimer. Tenaga panas disalurkan terus ke lapisan tersebut, tanpa banyak haba yang meresap ke substrat. Di kawasan aktif wafer, ketepatan suhu kekal pada tahap ±0.1°C, dan kebolehsamaan hasil proses pula kekal dalam lingkungan 0.2°C sepanjang 24 jam.
Platform ini direka untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan ia direka untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah yang boleh merosakkan proses pengeluaran. Bahan-bahan yang digunakan mempunyai kadar pelepasan gas yang rendah, tingkap kuarsa yang tertutup rapat, serta sistem aliran udara yang efektif untuk mencegah pencemaran. Proses pemanasan, pematangan lapisan CSP, semuanya dilakukan menggunakan pemanas yang sama – tiada keperluan untuk menyesuaikan tetapan pemanas antara proses-proses tersebut.
Mengapa ini penting dalam proses pengeluaran? Masa yang diperlukan untuk menyelesaikan satu kitaran pengeluaran dapat dikurangkan kerana proses pemanasan berlaku dengan cepat tanpa berlaku penyimpangan suhu. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana hanya lapisan fotoresist yang dipanaskan, bukan keseluruhan substrat. Kawalan dimensi lapisan fotoresist menjadi lebih tepat apabila suhu stabil, sehingga mengurangkan masalah seperti pembengkokan permukaan wafer. Waktu operasi sistem juga meningkat, kerana sistem dapat beroperasi 24/7 tanpa henti. Pemantauan suhu yang efektif pula membolehkan jarak waktu servis diperpanjang.
Beberapa perkara praktikal yang perlu dipertimbangkan sebelum memulakan penggunaan sistem ini: Saiz ruang di mana sistem ini akan dipasang perlu disesuaikan dengan betul, begitu juga dengan sifat reflektif permukaan wafer. Pemanas perlu disesuaikan dengan jenis lapisan fotoresist yang digunakan. Profil pemanasan yang seragam untuk semua jenis produk tidak akan berkesan. Lakukan ujian pendek untuk menentukan tetapan yang sesuai dan memastikan ketepatan suhu pada setiap kumpulan produk. Setelah ditetapkan, proses pengeluaran akan menjadi lebih konsisten. Itulah kelebihan utama sistem ini.