用于晶圆红外处理的精密加热技术

在芯片制造工厂里，人们很快就会明白：光刻胶烘烤温度即使只有0.5°C的波动，也足以导致关键尺寸出现纳米级的变化。因此，晶圆红外加热系统必须能够提供稳定的加热效果，且不会在加热过程中产生颗粒物，同时也不影响生产效率。 真正重要的是什么？ 我们使用的晶圆红外加热模块采用短波卤素发光体，并配有闭环控制系...