製造現場では、フォトレジストの焼成温度が0.5℃変動するだけで、重要な寸法がナノメートル単位で変わってしまうことをすぐに理解できます。ウェーハのIR加熱装置は、一回ずつ同じような熱処理を実現しなければならず、プロセス中に粒子が発生したり、稼働時間が損なわれたりしてはいけません。
重要なのは何か？ 私たちは、短波長のハロゲン発光体を使用したIR加熱装置を採用しており、フィードバック制御によって、焼成エリア全体でウェーハの均一性を±0.1℃以内に保っています。応答速度は秒単位なので、熱的なバランスが保たれ、処理条件も安定します。また、低発ガス性の材料を使用し、粒子の発生を抑える設計になっているため、クラス1～100のクリーンルームでの使用に適しています。出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の変動は5％未満です。
なぜリソグラフィーに役立つのか？ リソグラフィーにおいては、正確な制御が不可欠です。ソフトベイクやハードベイクによって、目標温度に速く到達し、その状態を長時間維持できるため、フォトレジストの厚さや端の形状、重要な寸法の均一性が保たれます。その結果、より均一な製品が得られ、再作業や廃棄物が減少します。また、エネルギー消費も削減されます。装置は必要に応じて加熱・冷却され、オーバーシュートが起こりません。この装置は、国際的な機器インターフェースや制御基準に対応しており、既存の半導体製造装置に簡単に組み込むことができます。
準備が必要なことは？ 設置時には、装置の機械的構造や電気的インターフェースを確認する必要があります。コネクタの種類、電圧、冷却剤の互換性をしっかり確認してください。特定のウェーハストックに合った熱処理条件を設定するために、短時間のテスト運転が必要です。出力パワー密度は焼成工程に合わせて決められているため、非常に高い出力はサポートされていません。この制約を考慮して計画を立てれば、定期的なメンテナンスを行えば24時間365日稼働可能です。